投影光刻儀

SUSS MicroTec 公司的光罩對準組合，以其高對準精度和精密的曝光技術，輔以獨創的投影光刻解決方案：DSC 光刻儀平台結合了全場光刻與投影光刻成像性能的所有優點，從而提供一個極具成本效益的替代方案，以取代步進投影。配備全視域光罩和寬帶投影鏡頭，以單一連續掃描模式投影至載具。

該平台適用於先進封裝（特別是晶圓級晶片尺寸封裝和倒裝芯片封裝）、3D 整合、微機電系統和顯示器。