MJB4掩模對準器
4吋手動光罩對準曝光機
SUSS公司新發表的MJB4是高度受歡迎的手動光罩對準曝光機MJB3的次世代版本。其非常適合作為實驗室與小系列生產之理想的經濟型設備。而在其接觸式曝光模式中，此設備能夠達到的0.5µm解析度，這在任何其它類似的機台上是非常卓越的效能。
強調
- 具有轉印特性解析度能力達0.5µm的高解析度手動光罩對準曝光機
- 可處理最大至4吋(晶圓)，4吋x4吋(基板)的晶圓與基板
- 適用於小片、III-V族材料、厚基板、混合式與HF元件等特殊基板的真空吸盤
- 高精準度的X、Y、Q對準平台座，以及顯微鏡控制器
- 高強度的光學設定，可適用於高達90mW/cm²的不同UV曝光波長
此機台已被廣泛運用在MEMS與光電子應用上。特別是它可以架構成能夠處理非標準型的基板，例如混合型、高頻元件或脆弱的III-V族材料，如GaAs或InP。此設備亦能與SUSS的單視域或分視域顯微鏡搭配，以獲得快速且高精準度的對準效能。
