AS8
適用於高表面崎嶇的手動噴霧式光阻塗佈機
SUSS所開發的新型AltaSpray塗佈技術，使用一種能夠在不同的3D微結構上沈積高解析度光阻膜的創新光阻沈積方法，其可以確保在不同的結構，如90°的角落、KOH蝕刻洞、V形溝槽或透鏡上維持一致性的等角塗佈。
AS8光阻塗佈機可提供所有一般的實驗室與試產需求。它是一台適用於從幾微米到高達600微米或更高表面崎嶇的3D微結構製造上的理想設備。
SUSS AS8光阻塗佈機也能夠運用在量產應用上
強調
- 跨越大起伏形貌的圖案化賦能技術
- 頂部邊緣覆蓋的保形塗佈，且能避免溝槽中堆膠。
- 專利的噴霧設計，可實現製程穩定性與重複性的優化
- 基板尺寸最大直徑為200 mm，方形基板最大邊長為 6"
- 最多可有2個獨立的噴霧噴塗系統，以避免交叉污染
- 帶有MMC控制器軟體的觸控式螢幕
- 全部製程參數可在製程功能表中程式設計
