ACS200 Gen3 塗布機和顯影劑
將專業知識與創新相結合
SUSS ACS200 Gen3 平台是一個結合創新和經過生產驗證的成功成果，將各種組件完美融合在一起。該平台具備最多4個濕製程模組和最多19個Temp slot 能力，完全滿足大批量製造（HVM）的需求。其模組和技術配置靈活性不僅能滿足Advanced Packaging、MEMS和LED 市場的要求，同時也彌合了研發和HVM之間的差距。此外，該平台的增強版ACS200 Gen3 TE 通過多達6個塗佈機和噴塗模組的導入，以及一個 Injet 模組，進一步提高了靈活性。
強調
- 具備卓越的配置靈活性
- 適用於研發和批量生產應用
- 適用於Advanced Packaging、MEMS和LED市場的應用
多功能底架提供多種配置可能性，例如多達 4 個濕法工藝模組（塗布機和/或顯影機）和多達 19 個板，或 2 個濕法工藝模組和 2 個噴塗機模組，最多 13 個板。
ACS200 Gen3 可以在每個濕法工藝模組上堆疊多達 3 個板，在第 5 個模組上堆疊多達 7 個板，因此在同類產品中允許最大的模塊數量。
不同的 I/O 系統可滿足任何需求。2x I/O滿足研發要求，而新設計的自動載入盒站可實現連續運行，而無需停止系統進行盒式磁帶更換。
塗佈機提供最先進的開放式塗佈技術，同時還擁有獲得專利的GYRSET®封閉式關蓋塗佈技術。Bowl設計提供了使用一次性工藝Bowl進行操作的可能性，而不會對流動動力學或排氣流量產生影響。由於易於清潔並減少了維護時間，它簡化了不方便或不尋常材料的操作。ACS200 Gen3 平台具有分離化學液和光阻的配置，可以在每個塗佈機模組的兩個不同手臂上實現。這樣的配置確保了優秀的良率。
對於開發應用，可以配置水性或溶劑顯影模組。提供多種不同的噴嘴類型，以滿足任何工藝要求。
與SUSS曝光系統的直接連接提高了產量，因為完整的光刻工藝流程不需要操作員干預。
可選的過濾風扇單元和工具的溫度/濕度控制可實現工藝穩定性、可重複性，並最終實現高產量。
