光罩設備

通過最高的面具完整性引人注目

每次引入新技術節點都需要在光掩模處理方面進行創新。 SUSS 與客戶、技術合作夥伴和原始設備製造商密切合作,以完全了解掩模車間和晶圓廠客戶的需求,並提供可保證最高水平掩模完整性的解決方案。

SUSS 成熟的光掩模加工設備套件涵蓋了所有技術節點,包括從剝離和清潔到曝光後烘烤和顯影工藝的 1x 半間距範圍的下一代光刻。

技術

  • 光光罩清洗
  • 表面準備
  • 對製程的高度保護——從操作者到環境
  • 濕法清洗

在器件製造過程中,光罩污染會影響曝光設備的正確成像過程。亞微米顆粒和有機/無機污染,都有可能危及良率。因此,光光罩的準備、清洗和把持在曝光生產製程中起著至關重要的作用。此外,下一代曝光技術要想達到22 nm及更高級的技術節點,需要非常有效的清洗技術,盡可能避免圖案損傷、光學特性變化。"零顆粒 "的理念因此不可或缺。

基板類型覆蓋了各種材料的傳統二元光光罩到相移光罩(PSM)。在光光罩生產過程中、最終使用者(設備製造商)的應用過程中,每一種都需要匹配的清洗技術。

一個全面的清洗製程包括:

  • 表面準備
  • 光阻劑剝離與有機物清除
  • 顆粒物去除
  • 殘餘離子去除
  • 乾燥、表面淨化與保存