MA8 Gen5 掩模對準器
用於研究和中大規模生產的緊湊型對準器平台
MA8 Gen5 代表了 SUSS 最新一代的半自動掩模和鍵合對準器。 新平台為標準、高級和高端流程引入了改進的壓印處理功能。
MA8 Gen5 提供增強的人體工程學和用戶友好的設計、成本效益和減少的佔地面積，是用於研究和大中型生產的完美工具。
SUSS 的 MA8 Gen5 正在為 MEMS 和 NEMS、3D 集成和化合物半導體市場的全場光刻設定新的基準，特別是在 LED、MEMS/NEMS、微光學、增強現實領域的各種壓印應用以及使用著名的 SMILE 技術的光電傳感器。 它還能夠處理鍵合對準和熔合鍵合等工藝。
強調
- 增強型 SUSS 調平系統
- 一種涵蓋微米到納米壓印的工具
- 傑出的過程結果
- 用戶友好性
- 擁有成本低
- 佔地面積小，符合人體工程學
通過精確獲得理想的過程結果
MA8 Gen5 的高度自動化可實現出色的工藝結果。恆定劑量模式、曝光時間自動控制單元和自動校準等功能都有助於優化工藝參數。此外，配備高級 MO 曝光光學系統，MA8 Gen5 提供理想的曝光條件，從而獲得一流的效果。精密的機械工作確保了高調整精度：頂部和底部顯微鏡單元（TSA 和 BSA）的特殊設計消除了 TSA 顯微鏡的長行程以及乾擾振動。它支持多種微結構和納米結構的壓印工藝。只需稍作調整，即可實現晶圓與晶圓之間的對準以及輕鬆的熔接。
高操作舒適度
高度直觀的配方編輯器、複雜的數據記錄和分配用戶權限等功能簡化了用戶的工作，同時最大限度地減少了操作員干預的需要。 MA Gen5 平台還使用了高級數碼顯微鏡和相機，由於增強的圖像質量和顯示器上的擴展視野，顯著簡化了對齊過程。
工作安全與環境保護
MA8 Gen5 配備了節能 LED 光源和精密的曝光光學器件，適用於所有光刻工藝。此外，專用的 UV-LED 泛光曝光裝置可用於壓印應用。 UV-LED 光源不僅降低了運行和維護成本，還提高了工作安全性和環境保護。這消除了汞燈的昂貴和危險的廢物處理。該機器提供更多的安全功能，例如紫外線輻射防護、安全聯鎖裝置和陷阱保護，從而滿足嚴格的安全要求。可選地，配置水銀光源也是可能的。
＃＃ 成本效益
憑藉其緊湊的設計，MA8 Gen5 提供了多種工藝，儘管佔地面積減少了，這是具有吸引力的擁有成本的主要因素，節省了昂貴的潔淨室空間。操作元件和可更換部件的可訪問性以及 LED 光源和著名的 SUSS MO 曝光光學器件的使用減少了維護工作。如果出現錯誤或故障，SUSS 服務人員可以遠程訪問機器，從而以快速且經濟高效的方式解決問題。