MA/BA Gen4 系列掩模和鍵合對準器

適用於工業化研究及生產的高功能光罩及接合對準器

第 4 代專業級 MA/BA 系列係為 SÜSS MicroTecs 旗下半自動式光罩對準曝光機之多方位裝置平臺,並提供包羅萬象的運用潛力。此對準器適用於 150 及 200 mm 以下的基板尺寸。由於工具及選項與可設定的工藝參數為數眾多,因此可在研發與生產過程中極致靈活地變化運用。第 4 代專業級 MA/BA 的設計已臻成熟且擁有最現代的技術,實屬在開發未來科技時最理想的利器。是以在微電機系統、先進封裝、3D 整合製程及複合半導體等領域不遑多讓地立下新的標竿。

強調

  • 卓越的製程結果
  • 高度的操作便利性
  • 低成本
  • 改善人機界面
  • 佔用空間小
  • 面對面顯微鏡
MA/BA Gen4 系列掩模和鍵合對準器

因精確度而達到最佳的製程結果

第 4 代 MA/BA 系列的自動化程度高,能達到傑出的製程結果。常量模式、自動控制曝光時間及自動對準等功能有助於使製程參數變得理想。此外,額外裝備優質光學系統(MO Exposure Optics)時,可使第 4 代 MA/BA 系列得到理想的曝光條件並從而取得最佳的結果。精心琢磨的機械裝置確保高度的對準精度。經由特殊的頂部及底部對準顯微鏡單位(TSA 及 BSA)構造,頂部對準顯微鏡(TSA)無需大幅度地移動,從而不會產生干擾性的震動。

操作舒適度高

諸如符合人機學的製程配方編輯器、資料記錄或設置可能選項、使用權等功能,再再便於操作人員進行作業,同時可失誤來源降至最少。此外,第 4 代 MA/BA 平臺運用優質數位顯微鏡及相機,不僅改良畫質且擴大螢幕上的視野(field of view),因而能顯著地簡化校準程序。

環境及作業保護

您可為第 4 代 MA/BA 系列選配符合能源效益的 LED 光源,除了降低運作及保養費用外,亦能提升對作業及環境的保護。不再須支出昂貴的特別廢棄物清潔費用處理汞氣燈。此機械提供各式安全預防措施,例如:紫外線照射防護、安全保險設備或防夾設施,該措施符合嚴格的安全協議。

符合成本效益

第 4 代 MA/BA 系列的持有成本誘人,佔用空間雖小卻同時具有多種製程樣態,係為抉擇的關鍵。例如選擇採用符合能源效益的 LED 光源時,即可省下運作及保養的支出。第 4 代 MA/BA 平臺的結構十分地經久耐用,可輕易地近用操作元件,且可換下零件以及使用 LED 光源及 SUSS MicroTecs MO Exposure Optics 優質光學系統,故能降低保養的成本。此外,經由遠端控制存取機械即可以成本低廉的方式偵測並解決故障。

可選配諸如將晶圓對準晶圓、熔融接合及壓印光刻技術等附加功能。

詳細情況 : 對準

  • 頂面對準(TSA)
  • 底面對準(BSA)
  • 紅外線對準 (IR)
  • DirectAlign®

詳細情況 : 曝光

  • 接近式曝光
  • 軟接觸曝光
  • 硬接觸暴露
  • 真空接觸曝光
  • UV LED光源

詳細情況 : 光學系統

  • MO Exposure Optics®
  • 消衍射光學器件

詳細情況 : 全自動

  • 自動對準
  • 楔形誤差補償(WEC)

詳細情況

    曝光

    • 實驗室類比軟體
    • 光源光罩優化

    奈米壓印技術

    • 壓印曝光
    • SMILE
    • 印模製備

    晶圓接合

    • 紫外線粘接
    • 鍵對準
    • 融熔接合