光罩對準機

最適用于厚、薄光阻劑應用，

SUSS MicroTec光罩對準曝光機，已成為品質優異、對準精度高和複雜曝光光學器件的代名詞。SUSS MicroTec為高端晶圓廠自動化、量產和研發環境提供系列光罩對準曝光機。SUSS MicroTec設計的光罩對準曝光機系統，適用于3D封裝、先進封裝、MEMS、LED、化合物半導體、功率器件、光伏、納米技術和晶圓級光學領域的曝光應用。

SUSS MicroTec的光罩與接合對準平臺，能夠對光罩到晶圓、晶圓到晶圓的操作進行高精度對準。該設備可加工任何材料種類、300 mm以下尺寸的基板和晶圓。通過多種附加功能，光罩對準機不僅能滿足各種製程要求，還以其靈活的配置模式獲得成功。