LabSpin 系列旋塗機和顯影劑
實驗室塗佈及顯影解決方案，適用於尺寸在150 及 200mm之晶圓
SUSS MicroTec的 LabSpin 平台為次世代的手動光阻塗佈機／顯影系統，是專為實驗室及研發人員而開發。LabSpin 系統是為各種微影化學藥劑而設計，可透過先進的Cup設計，完成均勻、精確、重覆性高的塗佈結果。
強調
- 多種工藝，包括旋塗和水坑顯影
- 邊緣珠去除
- 點膠定位靈活可調
LabSpin 系統共有兩款，分別為桌上 (TT) 型或整合入濕式工作臺 (BM)的版本，皆適用於尺寸在150 或 200mm 之晶圓。LabSpin 光阻塗佈機可處理各式各樣的基材，從尺寸在 150/200mm 以下的晶圓或100x100mm 或 150x150mm 的方形晶片，且由於體積尺寸小，因此僅需要使用最小的空間。
亦可選購各種專為符合任何應用需求而設計的 LabSpin 選配。LabSpin 系統除了提供旋轉式光阻塗佈外，亦可另外選購注射器或自動配料系統、邊緣塗佈、去除邊緣球狀物或浸潤式顯影。