RCD8 塗佈機和顯影劑

光阻塗佈與顯影平台
RCD8塗佈與顯影平台可依客戶需求進行客製配置，例如從基本的手動旋轉塗佈機到半自動的GYRSET®式塗佈機，以及浸置與噴霧顯影工具，適用於日常研發工作至小規模生產等用途。

光阻塗佈與顯影平台
由於具備廣泛的配置功能，RCD8幾乎可提供不同基板材料與形狀的塗佈與顯影。此平台可裝配各種經實驗過的下料系統與幫浦配置，以處理黏度小於1 cps至55,000 cps的光阻。

若日後需改裝，此多功能機台可使用各種選項直接於現場升級，完全滿足您未來的使用操作需求。

旋塗是將某種溶液均勻塗覆在某種旋轉基板上的製程。例如某種光阻劑被璇塗到晶圓的中心。隨後的加速度以及分配給各個步驟的旋轉速度與時間，確保多餘的光阻劑被甩掉後，基板上能保持均勻厚度的光阻劑。除製程參數之外，溶液或光阻劑的物理性質也決定了膠膜的厚度。

旋塗的應用僅限於沒有大起伏表面的結構。

GYRSET®技術

SUSS專利的GYRSET®技術，通過改善塗佈期間的條件，有助於顯著改善旋塗製程結果。在旋轉蓋的幫助下，可以創建一個溶劑高度飽和的無湍流氣氛。這不僅使製程結果更加獨立于環境溫濕度；還大大減少了塗佈晶片所需的材料用量，利於環保。