MaskTrack Pro 系列

光掩模的完整性对高标准光刻工艺的成功起主要作用。MaskTrack Pro 光掩膜自动处理系统满足下一代光刻路线在光掩模清洗、烘烤和显影工艺方面的所有标准。它是应对 193i 1x half-pitch DPT、极紫外光刻 (EUVL) 和纳米压印光刻 (NIL)高要求的创新解决方案。以创新技术最大限度地提高光掩模性能。

MaskTrack Pro 允许用第三方的产品扩展工具集群,并提供一个全面的方法,在全控、高洁环境中存储、处理和加工光掩模。模块化设计确保其具有高度的灵活性并能高度适应客户的要求。MaskTrack Pro 在第一次运行就能提供最佳的清洁效果,被视为行业的首选平台。

強調

  • 缩短上市时间
  • 延长光掩模的寿命
  • 提高扫描仪的运行时间
  • 降低运行成本
  • 产量最大化
MaskTrack Pro 系列

詳細情況 : 配置:193i / EUVL 光罩清潔系統

MaskTrack Pro 提供了物理和化學清潔技術與方法的獨特組合,用於表面處理和鈍化,使客戶能夠有效去除顆粒、有機和無機污染物,同時保持低至 1x nm hp 技術節點的掩模完整性。 MaskTrack Pro 向後兼容 90 nm hp。

  • 濕洗
  • 表面處理
  • 流程自動化
  • 標準

配置:單室光掩模背面清潔系統

MaskTrack Pro 可配置為自動無硫酸鹽光掩模清潔系統,專門設計用於清潔先進技術節點的薄膜掩模。

  • 濕洗
  • 流程自動化
  • 標準

配置:InSync EUVL 光掩模管理系統

MaskTrack Pro InSync 系統為 EUVL 環境中的整體掩模管理提供了特定的解決方案。 作為 MaskTrack Pro 清潔工具和 EUV 掃描儀之間的接口,它可以實現 EUV 雙吊艙系統的自動化。 在環境和處理方面提供極高的內在清潔度,它確保 EUV 掩模的安全和無污染轉移以及與 EUV 掃描儀的高靈敏度真空環境的兼容性。 創新設計允許使用第三方系統集群進行內部吊艙儲存和背面粒子檢測。

  • 標準
  • 產品特點

配置:光掩模烘烤和顯影系統

MaskTrack Pro Bake/Develop 系統是 SUSS MicroTec 用於下一代光刻的整體掩模產品系列的一部分。 該系統專為應對亞 32 納米光刻的挑戰而設計,可實現最複雜的光掩模製造。

  • 流程自動化
  • 標準
  • 發展
  • 曝光后烘烤

配置:TeraPure 壓印模板清潔系統

TeraPure 是 MaskTrack Pro 用於壓印模板的特定係統,是經過驗證的清潔技術和 SUSS 行業公認的最高一次通過清潔率。 模塊化設計為客戶提供了動態和開發技術所需的靈活性,例如納米壓印光刻 (NIL)。

  • 濕洗
  • 流程自動化
  • 標準
  • Surface Preparation