MaskTrack Pro 系列

MaskTrack Pro 提供了物理和化學清潔技術與方法的獨特組合，用於表面處理和鈍化，使客戶能夠有效去除顆粒、有機和無機污染物，同時保持低至 1x nm hp 技術節點的掩模完整性。 MaskTrack Pro 向後兼容 90 nm hp。

MaskTrack Pro 可配置為自動無硫酸鹽光掩模清潔系統，專門設計用於清潔先進技術節點的薄膜掩模。

MaskTrack Pro InSync 系統為 EUVL 環境中的整體掩模管理提供了特定的解決方案。 作為 MaskTrack Pro 清潔工具和 EUV 掃描儀之間的接口，它可以實現 EUV 雙吊艙系統的自動化。 在環境和處理方面提供極高的內在清潔度，它確保 EUV 掩模的安全和無污染轉移以及與 EUV 掃描儀的高靈敏度真空環境的兼容性。 創新設計允許使用第三方系統集群進行內部吊艙儲存和背面粒子檢測。

MaskTrack Pro Bake/Develop 系統是 SUSS 用於下一代光刻的整體掩模產品系列的一部分。 該系統專為應對亞 32 納米光刻的挑戰而設計，可實現最複雜的光掩模製造。

TeraPure 是 MaskTrack Pro 用於壓印模板的特定係統，是經過驗證的清潔技術和 SUSS 行業公認的最高一次通過清潔率。 模塊化設計為客戶提供了動態和開發技術所需的靈活性，例如納米壓印光刻 (NIL)。