SD12 Entwickler & Reinigungssystem

Flexible Lösung für lösemittelbasierte Entwicklung und Reinigung

Das manuelle Nassprozesssystem SD12 von SÜSS MicroTec bietet ausgezeichnete Reinigungs- und Entwicklungsfunktionen für die Anwendung von lösemittelbasierten Medien. Die Einzelwafer-Verarbeitungsplattform arbeitet mit Stücken, Wafergrößen von bis zu 300 mm, quadratischen Substraten von bis zu 230 x 230 mm und Tape-Frames für Wafer von bis zu 300 mm. Das Gerät ist in der Lage, mit verschiedenen Medien und Prozessen umzugehen, was die nötige Flexibilität für den Wechsel zwischen Anwendungen gewährleistet. Aus diesem Grund ist das Gerät die erste Wahl für die Forschung und die Kleinserienproduktion.

Highlights

  • Speziell für lösemittelbasierte Prozesse entwickelt
  • Ausgezeichnete Prozessvielfalt mit einer breiten Palette an Dispenstechnologien
  • Hohe Sicherheitsstandards
SD12 Entwickler & Reinigungssystem

Herausragende Flexibilität

Durch den Einsatz optimierter Chucks zeigt die SD12 ihre Vielseitigkeit bei der Verarbeitung vieler verschiedener Arten von Substraten. Sogar zerbrechliche Strukturen (bspw. InP, GaAs) können sicher verarbeitet werden. Durch spezialisierte Tooling-Optionen und eine umfassende Auswahl an einfach anzupassenden Prozessparametern eignet sich das System SD12 für viele Prozessanwendungen, einschließlich Anwendungen mit lösemittelbasierten Medien. Die Möglichkeit, Parameter wie Schrittzeit, Spingeschwindigkeit, Beschleunigung und Verzögerung, Position des Dosierarms und Schwenkbewegung zu programmieren, ermöglicht das System einen optimierten Prozessablauf, der zu reproduzierbaren und stabilen Prozessergebnissen führt. Durch die Ausstattung mit den hochentwickelten Dispenstechnologien von SÜSS MicroTec unterstützt die SD12 wirksam die Entwicklung und Reinigung.

Hochentwickelte Dispenstechnologien

Die SD12 bietet eine breite Palette an Dispenstechnologien für verschiedene Prozessanforderungen. Eine Vielzahl an Prozessen kann durchgeführt werden: von einer einfachen Puddle- oder Spray-Entwicklung hin zu einem Lift-off, der neben dem Puddle-Dispens für das Einwirken und abschließende Spülen auch Hochdruck für den Lift-off von Lack und Metall erfordert. Alle zuvor genannten Dispenstechnologien können am Dosierarm der SD12 konfiguriert werden.

Intelligentes lösemittelbasiertes Mediensystem

Die SD12 ist für die besonderen Anforderungen im Umgang mit lösemittelbasierten Medien ausgelegt. Alle Teile, die mit Prozesschemikalien in Berührung kommen, sind aus unempfindlichen Werkstoffen gefertigt. Der Ablauf kann an die Gebäudeentwässerung oder an Entsorgungsbehälter angeschlossen werden.

Die Medien werden in einem Medienspeicher mit Ausstromanbindung sicher gelagert und durch einen Leckagedetektor gesichert. Regelsysteme für Durchfluss und Druck regeln das Medium. Optional kann auch die Medientemperatur geregelt werden, um optimale Prozessergebnisse zu gewährleisten. Zur Verringerung des Gesamtmedienverbrauchs kann ein Rücklaufsystem installiert werden.

Einfacher und sicherer Betrieb

Die SD12 ist einfach zu bedienen und zu warten. Prozessparameter und Mediendaten können auf Knopfdruck abgerufen werden. Programmierbare Rezepte beschleunigen den Arbeitsablauf und unterstützen die Reproduzierbarkeit. Für den komfortablen Betrieb und die unkomplizierte Wartung des Geräts sind alle Teile leicht zugänglich. Darüber hinaus wurde bei der Entwicklung des Geräts das Hauptaugenmerk auf die Sicherheit des Bedieners gelegt. Eine dicht abgeschlossene Prozesskammer mit einer automatischen Sicherheitsglastür gewährleistet eine abgeschlossene Prozessumgebung und erleichtert die Überwachung des Prozesses. Verriegelungssensoren garantieren den sicheren Betrieb des Geräts.

Details : Details

  • Prozesstechnologien
  • Dispenstechnologien