MaskTrack Pro Series

Für das Gelingen von hoch anspruchsvollen lithografischen Prozessen spielt die Unversehrtheit der Fotomaske eine große Rolle. Die automatisierte Anlage zur Fotomaskenbearbeitung MaskTrack Pro erfüllt alle Kriterien der nächsten Stufe der Lithografie-Roadmap im Hinblick auf Reinigungs-, Ausheiz- und Entwicklungsprozesse von Fotomasken. Ihre innovativen Lösungen sind auf die hohen Anforderungen von 193i 1x half-pitch DPT, Extreme-Ultraviolet-Lithography (EUVL) und Nanoimprint-Lithografie (NIL) ausgerichtet. Innovative Verfahren zielen auf maximale Güte der eingesetzten Fotomasken.

MaskTrack Pro erlaubt eine Erweiterung zu Tool-Clustern mit Produkten von Drittanbietern und bietet damit einen gesamtheitlichen Ansatz für die Aufbewahrung, das Handling und die Verarbeitung von Fotomasken in einer vollkontrollierten und höchst reinen Umgebung. Die Modularität des Designs garantiert hohe Flexibilität und Anpassbarkeit auf Kundenwünsche. MaskTrack Pro liefert das beste Reinigungsergebnis bereits im ersten Durchlauf und gilt damit branchenweit als Plattform der Wahl.

Highlights

Verkürzt die Zeit bis zur Markteinführung
Verlängert die Lebenszeit der Fotomaske
Erhöht die Betriebszeit des Scanners
Reduziert die Betriebskosten
Maximiert die Ausbeute

Details : Konfiguration: 193i / EUVL Photomask Cleaning System

MaskTrack Pro bietet eine spezielle Kombination von physikalischen und nasschemischen Reinigungstechnologien und -methoden zur Oberflächenbehandlung und -passivation. Sie erlaubt eine effektive Entfernung von Partikeln und organischer sowie anorganischer Verunreinigung. Darüber hinaus sichern intelligente Reinigungsabläufe und verschiedene Verfahren zur Oberflächenvor- und -nachbehandlung die Unversehrtheit von Fotomasken für Technologieknoten bis hinunter zu 1x nm Half-Pitch.

MaskTrack Pro ist abwärts kompatibel bis zu 90 nm Half-Pitch.

Nassreinigungsmethoden
Oberflächenbehandlung
Prozessautomatisierung
Standards

Konfiguration: Single Chamber Photomask Backside Cleaning System

MaskTrack Pro lässt sich speziell für die Reinigung vom 193i-Photomasken als System konfigurieren, das ohne den Einsatz von sulfathaltigen Chemikalien auskommt.

Nassreinigungsmethoden
Prozessautomatisierung
Standards

Konfiguration: InSync EUVL Photomask Management System

Das InSync System von MaskTrack Pro stellt ein ganzheitliches Konzept für das Maskenmanagement in einer EUVL-Umgebung dar. Als Schnittstelle zwischen der MaskTrack Pro Reinigungsplattform und dem EUV-Scanner ermöglicht es die Automatisierung des EUV-Dual-Pod-Systems. Mit seiner Ausrichtung auf höchste Ansprüche an Eigensauberkeit sichert es einen partikelfreien Transfer der EUV-Fotomaske und die Kompatibilität mit der hochsensiblen Vakuumumgebung des EUV-Scanners. Das innovative Design erlaubt die Lagerung des Inner-Pods und eine Partikelerkennung auf der Rückseite.

Standards
Eigenschaften

Konfiguration: Photomask Bake and Develop System

Das MaskTrack Pro Bake and Develop System ist Teil von SUSSs umfassender Maskenproduktserie für Next-Generation-Lithography. Eigens für die Anforderungen von sub 32 nm Technologieknoten konzipiert, ermöglicht die Plattform sehr anspruchsvolle Prozesssschritte bei der Herstellung von Fotomasken.

Prozessautomatisierung
Standards
Entwicklung
Post-Exposure Bake

Konfiguration: TeraPure Imprint Template Cleaning System

TeraPure, MaskTrack Pros spezielles System für Imprint-Matrizen, enthält bewährte Technologien mit denen es das branchenweit anerkannte beste Reinigungsergebnis im ersten Durchgang erzielt. Das modulare Design bietet Kunden die Flexibilität, die sie für dynamische und sich noch weiter entwickelnde Verfahren wie die Nanoimprint-Lithografie (NIL) brauchen.