MJB4 Mask-Aligner
Die Modernste F&E-Lösung für kleine Substrate und Bruchstücke
Dank seiner einfachen Bedienung und kompakten Größe ist der MJB4 von SUSS das ideale System für Labore und Kleinserienproduktionen. Die kostengünstige Fotolithografie-Lösung setzt Standards, insbesondere bei der Bearbeitung kleiner Substrate und Bruchstücke bis 100 mm. Seine zuverlässige, hochpräzise Justage und seine Fähigkeit zur hochauflösenden Strukturierung im Submikrometer-Bereich machen den MJB4 zu einem Gerät mit einzigartiger Leistungsfähigkeit in seiner Klasse.
Highlights
- Hohe Auflösung bis 0,5 µm
- Schnelle und präzise Justage mit Singlefield- oder Split-Field-Mikroskop von SUSS
- Hoch auflösende Optik speziell für dicke Lackschichten
- Optionale Ausstattung mit universeller Optik für den schnellen Wechsel zwischen verschiedenen Wellenlängen
- Nachrüstbar mit UV-Nanoimprint-Lithografie
Der MJB4 findet häufig im MEMS- und F&E-Bereich Anwendung. Spezielle Konfigurationen ermöglichen ein optimales Handling auch nicht standardisierter Substrate wie Hybride, HF-Bauteile oder zerbrechlicher III-V-Materialien. Zusätzlich besteht die Möglichkeit, den MJB4 um ein Modul für die UV-Nanoimprint-Lithografie zu erweitern.
