ASx-Serie Fotomasken-Reinigungssystem
SUSSs ASx-Serie bietet moderne Bake-, Entwicklungs- und Reinigungsmethoden für die Bearbeitung von Fotomasken und Technologieknoten im Bereich von 250 nm bis 65 nm. Mit ihrer Verlässlichkeit, Stabilität und ihrem hohem Leistungsvermögen bewältigt die Plattform die Anforderungen bei der defektfreien Bearbeitung von Fotomasken, die lithografischen Prozessen im 248 nm- und 193 nm-Bereich ausgesetzt sind.
Highlights
- Bestes Reinigungsergebnis im ersten Durchgang, was sich verlängernd auf die Lebensdauer der Fotomaske auswirkt
- Niedrige Cost-of-Ownership mit geringer Stellfläche (1200 x 1200 mm)
- Hohe Verlässlichkeit und Verfügbarkeit
- Mehr als 250 ASx-Systeme im Feld installiert
- Modernste Hot-Plate – qualifiziert bis zu 14 nm und darunter
