HP8 Heizplatte
Hot-Plate für R&D, Labore und kleinvolumige Produktion
SUSSs manuelle Hot-Plate HP8 ist speziell für die Aufgabengebiete von Forschungsarbeit und kleinvolumiger Produktion konzipiert. Durch die Herstellung einer homogenen Temperaturverteilung und mittels einer Heizrampe, die sich durch hohe Wiederholgenauigkeit auszeichnet, sichert die Hot-Plate stabile Prozessergebnisse. Sie eignet sich für Substratgrößen bis zu 200 mm.
Highlights
- Substratgrößen bis zu 200 mm (rund) oder 6”x6” (eckig)
- Gleichmäßige Temperaturverteilung
- Schnelles Erhitzen
- Leistungsfähige Schutzschicht auf der Hot-Plate-Oberfläche
- Einfach zu bedienende Grafikoberfläche mit Touch-Screen
- Programmierbare Heizrampe (mit spezieller Kontrolle überTouch-Panel)
Um die branchenweit beste Temperaturverteilung zu erreichen, verlässt sich die HP8 von SUSS nicht auf konventionelle Heizpatronen. Stattdessen werden mehrere Meter lange Heizspiralen innerhalb der Grundplatte auf eine vielfach bewährte Weise arrangiert. Das verhindert die Bildung von besonders heißen oder kalten Bereichen und sichert eine gleichmäßige Temperaturverteilung. Eine spezielle Beschichtung sorgt für eine höhere mechanische und chemische Widerstandsfähigkeit und vereinfacht den Reinigungsprozess.
Die Hot-Plate wird in drei verschiedenen Gehäusen angeboten (Bench-Mount, Table-top und Stand-alone). Die Kontrolle erfolgt über ein spezielles Kontrollsystem mit Touchscreen. Wenn die HP8 mit der Coat- und Develop-Plattform RCD8 kombiniert wird, bietet sich optional die gemeinsame Verwaltung über das gleiche Touchscreen an. Das Table-top- und das Bench-Mount-Modell passen in Größe und Aussehen zu SUSSs LabSpin-Serie. Nicht nur das Format und die Steuerungsmöglichkeiten bieten große Flexibilität, sondern auch die vielen verfügbaren Optionen wie Lift-Pins, Proximity-Bake und Stickstoffspülung sind an die täglichen Anforderungen der Laborarbeit angepasst.
Zur Standardausstattung der Hot-Plate gehören Lift-Pins, die einfaches und sicheres Handhaben des Substrats gewährleisten. Die Proximity-Option erlaubt es, den Abstand zwischen Substrat und Hot-Plate im Mikrometerbereich einzustellen, was eine große Bandbreite an Prozessmöglichkeiten bietet. Der Durchfluss der Stickstoffspülung lässt sich manuell anpassen und wird über ein digitales Display angezeigt. Stickstoffspülung und Vakuumansaugung können einzeln für jeden Schritt im Rezepteditor angewählt werden. Der geschlossene, doppelwandige Deckel sorgt für stabile Prozessbedingungen und verhindert, dass der Anwender die heiße Oberfläche zufällig berührt.