MA8 Gen5 掩模对准机
用于研究、中等规模生产到量产的紧凑型对准机平台
MA8 Gen5代表了SUSS最新一代半自动的掩模和键合对准机。新平台为标准、先进和高端的工艺引入了改进的压印工艺功能。
MA8 Gen5具有增强的人体工程学和用户友好设计，成本效益高，占地面积小，是用于研究、中等规模生产到量产的完美工具。
SUSS的MA8 Gen5，正在为MEMS和NEMS、3D集成和化合物半导体市场的全场光刻技术树立新的基准；特别是在LED、MEMS/NEMS、微光学、增强现实和光电子传感器等需要使用著名的SMILE技术的大量压印应用领域。它还能够处理诸如键合对准和熔融键合等工艺。
亮点
- 增强的SUSS调平系统
- 涵盖微米到纳米压印的一站式工具
- 优异的工艺结果
- 用户友好
- 拥有成本低
- 占地面积小，增强的人机工程学特性
通过精确获得理想的工艺结果
MA8 Gen5的高度自动化，有助于优异的工艺结果。恒定剂量模式、曝光时间的自动控制单元、自动对准等功能，都有助于优化工艺参数。此外，配备了高档的MO曝光光学系统，MA8 Gen5提供了理想的曝光条件，从而获得了一流的结果。复杂的机械工作确保了高的调整精度：顶、底部显微镜单元（TSA和BSA）的特殊设计，消除了TSA显微镜的长行程、干扰性振动。它支持多种微/纳米结构压印工艺。稍作调整就能实现晶圆-晶圆对准，以及轻松的熔融键合。
操作舒适度高
高度直观的工艺菜单编辑器、复杂的数据记录、分配用户权限等功能，简化了用户的工作，同时最大限度地减少了操作者的干预。MA Gen5平台还利用了高级数字显微镜和摄像机，由于增强了图像质量、扩展了显示器上的视野，大大简化了对准工艺。
工作安全与环境保护
MA8 Gen5配备了节能的LED光源、复杂的曝光光学器件，适用于所有光刻工艺。此外，还有一个专用的UV-LED泛光曝光单元，可用于压印应用。UV-LED光源不仅降低了操作与维护成本，而且还提高了工作安全性和环保性。这消除了昂贵、危险的汞灯废物处理。该设备提供了进一步的安全功能，如紫外辐射保护、安全联锁和陷阱保护，从而满足了严格的安全要求。但也可以选择配置汞灯源。
性价比
凭借其紧凑的设计，MA8 Gen5在减少占地面积的情况下提供了多种工艺，节省了昂贵的洁净室空间，这也是拥有成本具有吸引力的一个主要因素。由于工作元件和可更换部件的可及性，以及使用了LED光源和著名的SUSS MO曝光光学器件，维护工作得以减少。如果出现错误或故障，可由SUSS的服务人员远程访问该设备，从而能够快速、经济地解决问题。