ACS200 Gen3涂胶与显影机
产业变革 - 结合Gamma和ACS200Plus平台的最佳优点
SUSS ACS200 Gen3平台是创新和生产验证组件完美结合的成功结果。它最多可容纳4个湿法工艺模块，最多可容纳19块板，完全适合大批量制造（HVM）的需要。模块和技术的配置灵活性不仅涵盖了先进封装、MEMS和LED市场的要求，而且还弥补了研发和HVM之间的差距。该平台的增强版ACS200 Gen3 TE进一步提高了灵活性，最多有6个旋转和喷射模块以及一个集成喷墨模块。##
亮点
- 配置方面有很大的灵活性
- 用于研发以及大规模生产
- 用于高级封装、MEMS和LED市场的应用
多功能的底架提供了多种配置的可能性，例如，最多4个湿法工艺模块（涂布机和/或显影机），最多19个印版，或者2个湿法工艺模块和2个喷淋涂布机模块，最多13个印版。
ACS200 Gen3可以在每个湿法工艺模块上堆叠最多3个印版，在第5个模块上堆叠最多7个印版，因此ACS200 Gen3可以在同类产品中实现最大的模块数。
不同的I/O系统可满足任何需求。2倍的I/O可满足研发要求，而新设计的自动装载盒站可实现连续操作，无需停止系统进行盒式交换。
涂布腔体可以提供最先进的敞开式涂布和SUSS专利GYRSET®闭盖式涂布技术。设计上具备使用一次性工艺腔体进行操作的可能性，且在流动动力学或排风气流方面不会产生任何影响。由于腔体易于清洁，减少了保养时间，使得操作更加简化方便。ACS200 Gen3的每个涂布模块中，可以将有机溶剂和光刻胶管路分别装配的两个不同的喷液手臂上，因此可以实现极高的良率。
对于显影应用，可以配置一个水基或溶剂显影模块。有多种不同的喷嘴类型可供选择，以满足任何工艺要求。
与SUSS曝光系统的直接连接增加了产量，因为对于一个完整的光刻工艺流程来说，不需要操作员的互动。
可选的过滤风扇装置和工具的温度/湿度控制使工艺稳定，可重复性强，最终实现高产量。
