RCD8 涂装机和开发机

RCD8涂胶显影平台
从基本手动旋涂机到半自动GYRSET®增强型涂胶机，再到喷胶显影机，RCD8涂胶显影平台能够轻松定制改造，非常适合于日常研发和小规模生产。

RCD8是世界上首台能选择在短短几分钟内从独创的GYRSET®闭合上盖涂覆技术的旋涂机改造成喷胶显影机的设备。

RCD8涂胶显影平台
由于RCB8具有多种类型的夹具以及多样化的配置，它确实能够实现各种衬底材料和形状的光刻胶涂覆和显影。该平台通过装配各种成熟的滴胶管道和泵，可以处理粘滞度小于1cps到55000cps的光刻胶。

无论在何时需要改变，这款通用型设备平台都能够现场实现各种升级，很好地满足客户未来需求。

旋涂是将某种溶液均匀涂覆在某种旋转基板上的工艺。溶液，例如某种光刻胶，被配送到晶圆的中心。随后的加速度以及分配给各个步骤的旋转速度与时间，确保多余的光刻胶被甩掉后，基板上能保持均匀厚度的光刻胶。除工艺参数之外，溶液或光刻胶的物理性质也决定了胶膜的厚度。
旋涂的应用，仅限于没有大起伏表面的结构。

光刻胶旋涂过程中，GYRSET旋转盖板原理能够在衬底上方实现独特的无湍流饱和溶剂的环境，因此可显著减少环境温度和湿度对工艺结果的影响。由于材料保持湿润状态的时间延长了，该材料表面能保持较高的浸润性，使涂覆晶圆材料的用量大大减少。