MJB4面罩对准器

小尺寸基片的最新研发解决方案

SUSS的MJB4是广受欢迎的手动光刻机MJB3的全新换代产品。操作方便,占地面积小,成为实验室研究和小批量生产的理想设备。作为经济型光刻解决方案,MJB4针对直径达100mm的小尺寸基片工艺确立了一套工业标准。MJB4配有高可靠和高精度的对准系统,同时具备亚微米量级的高分辨率图形转移能力,这些特点都使得MJB4的性能明显优于同类设备。

亮点

  • 高分辨率掩模对准光刻,特征尺寸优于0.5微米
  • 装配SUSS的单视场显微镜或分视场显微镜,实现快速准确对准
  • 针对厚胶工艺进行优化的高分辨光学系统
  • 可选配通用光学器件,在不同波长间进行快速切换
  • 可通过装配升级套件,实现紫外纳米压印光刻
MJB4面罩对准器

MJB4系统可广泛用于MEMS和光电子,例如LED生产。它经过特殊设计,方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元件和易碎的III-V族材料,包括砷化镓和磷化铟。而且该设备可通过选配升级套件,实现紫外纳米压印光刻。

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详细情况 : 统一口径

  • 顶面对准
  • 红外对准

详细情况 : 曝光

  • 软接触曝光
  • 硬接触曝光
  • 真空接触曝光

详细情况 : 曝光光学

  • MO Exposure Optics®
  • HR / LGO 曝光系统
  • 抗衍射曝光系统
  • UV LED 光源

详细情况 : 自动化

  • 楔形误差补偿(WEC)

曝光

  • 实验室模拟软件

纳米压印光刻技术

  • 压印光刻

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