ACS300 Gen2 涂胶与显影机

用于晶圆片级封装的旋涂/显影一体机

ACS300 Gen2是模块化一体机,它的设计完全能够很好地客户生产对洁净度、可靠性、高产能以及模块化光刻工艺的要求,设备可以生产200和300mm尺寸的晶圆片,在变换晶圆片尺寸时,无需作任何机械改装。SUSS的ACS300 Gen2系统可以配置不同的工艺模块:HMDS预处理模块、旋涂模块,喷涂模块、水基或溶剂型显影模块以及冷热板模块。系统既精于处理厚胶和薄胶工艺,又可以完成光敏性聚合物,例如聚酰亚胺和苯并环丁烯(BCB)的相关工艺。SUSS的ACS300 Gen2系统能够处理传统光刻胶工艺、三维集成,以及晶圆级封装技术的各类工艺要求。

SUSS ACS300 Gen2は、高度なレジスト処理、特に3D集積化およびウェハーレベルパッケージング技術のすべての要件に適応しています。

亮点

  • 200 mm和300 mm晶圆无需机械转换的并行加工
  • 高速、高精度的六轴机器人和光学中心校准
  • 出色的厚胶工艺能力,及一流的去边性能
ACS300 Gen2 涂胶与显影机

ACS300 Gen2能够灵活适应从研发到试产、再到量产的使用需求。占地很小的两个载片窗口模块直接搭载于基本模组,将客户的操作成本降至最低。如果配置两组前端模块(EFEM),设备可以搭载4个载入窗口模块。设备配有高精度6轴机器人以及光学定中心系统。独特的GYRSET工艺闭盖设计,无论胶厚低于1μm或高于100μm,均能获得极好的均匀性。

ACS300 Gen2可以和MA300 Gen2接近式光刻机组合成为LithoPack300一体机。

详细情况 : 涂胶技术

  • 旋涂
  • 喷涂

旋涂是将某种溶液均匀涂覆在某种旋转基板上的工艺。溶液,例如某种光刻胶,被配送到晶圆的中心。随后的加速度以及分配给各个步骤的旋转速度与时间,确保多余的光刻胶被甩掉后,基板上能保持均匀厚度的光刻胶。除工艺参数之外,溶液或光刻胶的物理性质也决定了胶膜的厚度。
旋涂的应用,仅限于没有大起伏表面的结构。

可供使用:

半自动涂胶与显影机
手动涂胶机与显影机

详细情况 : 显影工艺

  • 浸置式显影
  • 喷雾显影

在此工艺中,一定量的显影剂被滴在曝光后的衬底上,并通过适度的旋转分散开。 显影液因其表面张力在晶圆上形成凸状的液面(“Puddle”)。 当显影时间结束后,通过提高旋转速度甩干晶圆上的显影液。 然后,用去离子水冲洗晶圆并同样提高转速甩干。 这种方法的优点是,只需使用少量显影液,就能提供优异的显影结果。

浸置式显影法不得用于显影液达到饱和时,例如当必须除去大量显影后的光刻胶时或者凹凸图形阻碍了更换显影液时。 在这些情况下,需多步使用浸置式显影或者使用喷涂式显影 。

我们的客户可以从中得到以下好处

  • 化学品用量降低

可供使用:

半自动涂布机和研发人员

涂胶技术

  • GYRSET®
  • 倒置胶瓶
  • 调度器-软件
  • 处理弯曲晶圆
  • 330 mm晶圆夹具
  • AltaSpray®
  • 烘烤
  • 蒸汽预处理

光刻胶旋涂过程中,GYRSET旋转盖板原理能够在衬底上方实现独特的无湍流饱和溶剂的环境,因此可显著减少环境温度和湿度对工艺结果的影响。由于材料保持湿润状态的时间延长了,该材料表面能保持较高的浸润性,使涂覆晶圆材料的用量大大减少。

GYRSET旋转盖板技术是基于:

  • 开盖滴胶
  • 闭盖涂胶

可供使用:

自动镀膜机和显影机
Semi-Automated Coater and Developer