ACS200 Gen3 TE涂胶显影机

最大化产能的全自动平台

SUSS ACS200 Gen3 TE平台将ACS200 Gen3这款非常成功且市场熟知的产品提升到了一个新的高度。不仅在产能上有了显巨提高,在操作和维护上也更加舒适。SUSS ACS200 Gen3 TE能够提供非常灵活的模块和技术配置,以满足先进封装、MEMS、LED和其他市场的要求,并为研发和HVM提供服务。

亮点

  • 多达6个旋转工艺模块
  • 采用动态对中(IMOC)提高晶圆传送效率
  • 超高的配置灵活性
  • 可实现自动化系统的喷墨技术
  • 操作舒适性高
  • 标准制造接口(SMIF)负载端口
ACS200 Gen3 TE涂胶显影机

基础框架经过重新设计,可配置多达6个旋转工艺模块,并可在这些模块上方配置冷热板组。此外,动态对中(IMOC)功能的引入,即晶圆传送时的“动态”定心,进一步提高了整体产能。

为了满足最新的ESD标准,并为操作员和技术人员提供更高的舒适度,该平台已经进行更新。第二屏幕可根据个人需要进行配置,可以用来显示摄像头以及设备/模块的状态,并且可以处理测量数据。外围配套设备也得到了显著改进,特别是新推出的Flexi Media Cabinet,整洁、标准化程度高。

由于采用PiXDRO技术的SUSS JETx喷墨模块已完全集成到该平台中,使得该平台支持下一代材料沉积技术,且仍具有添加其他模块的能力。同时,已经引入了标准制造接口(SMIF)加载端口。此外,流量控制器系统为有机溶剂和显影工艺应用提供了非常出色的喷液精度。

ACS200 Gen3 TE平台将继续提供最先进的敞开式腔体涂布和SUSS专有的GYRSET®闭盖式涂布技术。广为接受的腔体设计将保持不变,因此能够实现将工艺从之前的平台到现在的轻松转移。

详细情况 : 涂胶技术

  • 旋涂
  • 喷涂

详细情况 : 显影工艺

  • 浸置式显影
  • 喷雾显影

涂胶技术

  • GYRSET®
  • 倒置胶瓶
  • 调度器-软件
  • 处理弯曲晶圆
  • AltaSpray®
  • 烘烤
  • 蒸汽预处理
  • 边缘处理