ECD8 涂胶/显影机
用于光刻胶涂布或显影的多功能平台
ECD8 平台是一种增强型设备，具有广泛的应用范围。它既配置成涂布机，也可用作显影机，并可进行完美定制。从半自动敞开式腔体到带有GYRSET® 同步旋转盖或空气隔离板的涂胶机，以及柱状喷液的显影机，共有四种选择。ECD8 的多功能性使其成为研发和批量生产的完美选择。
亮点
- 广泛应用的基础设备
- 轻松定制
- 应用范围广泛
- 成本效益
- 工艺区域一览无余
- 易于使用的图形用户界面（GUI）
ECD8 提供顶级标准配置。即使是基础版，ECD8 涂布/显影机也配备了适用于 2''-200 毫米的圆片的可编程工艺手臂和内置通用对中装置。
此外，基础版显影机还配有去离子水背面冲洗装置、去离子水柱状喷液和氮气管路。所有管路流量均可调节监控，且设备可以配置第二种显影液。
涂布机基础型包括有机溶剂背面冲洗和厚胶边去除功能。流速可手动调节，并可在图形用户界面上实时显示和监控。标准的预设选择中最多可配置两路喷液管路，但还可再添加一条有机溶剂管路。
作为附加选项，GYRSET® 旋转盖可集成到 ECD8 旋转涂布模块中。对于不同的光刻胶和应用，GYRSET® 技术可提供更宽的工艺窗口。此外，方形基板和碎片可以通过此技术将光刻胶均匀地涂覆到边角位置。
作为 GYRSET® 技术的替代方案，ECD8 可使用空气隔离板设计。这种静态板位于转盘表面上方约 20 毫米处，旨在最大限度地减少晶片上的湍流。所有标准转盘均可使用该技术。空气隔离板适用于高转速的应用。
ECD8 有多种型式和配置可供选择，可对2英寸到200毫米的基片以及边长达6英寸的方形基片进行旋涂或显影。该平台最多可配备两路久经验证的喷液管路和胶泵，用于处理粘度从 <1 cps 到 4000 cps 的光刻胶。
为了实现全面的安全控制，ECD8 配备了漏液、气体和排风传感器。由于设备提供了内置废液收集瓶和供液系统的空间，因此不需要额外的供液柜。
ECD8 具有友好的图形用户界面和基于 Linux 的直观软件，使得操作 ECD8 非常简单。此外，还可在触摸屏显示器上实时查看供液的状态和当前性能值等基本信息。自定义的极限值和配方参数均受到实时监控，任何偏差都会随之发出警告。此外，ECD8 的透明罩还可以清晰地观察作业区域，实现可视化控制。