光掩模设备

在器件制造过程中，掩模污染会影响光刻设备的正确成像过程。亚微米颗粒和有机/无机污染，都有可能危及良率。因此，光掩模的准备、清洗和把持在光刻生产工艺中起着至关重要的作用。此外，下一代光刻技术要想达到22 nm及更高级的技术节点，需要非常有效的清洗技术，尽可能避免图案损伤、光学特性变化。"零颗粒 "的理念因此不可或缺。

基板类型覆盖了各种材料的传统二元光掩模到相移掩模（PSM）。在光掩模生产过程中、最终用户（设备制造商）的应用过程中，每一种都需要匹配的清洗技术。

一个全面的清洗工艺包括：

• 表面准备
• 光刻胶剥离与有机物清除
• 颗粒物去除
• 残余离子去除
• 干燥、表面净化与保存