MaskTrack Pro 系列

MaskTrack Pro 提供独特的物理和化学清洗法组合。能够有效地清除颗粒和有机及无机污物。此外，智能清洗过程和各种表面处理方法确保技术节点掩模的完整性低于 1x nm Half-Pitch。

MaskTrack Pro 向后兼容至 90 nm Half-Pitch。

创新的平台方案提供一个群集解决方案连同 MaskTrack Pro InSync 系统、掩模背面粒子探测以及 EUV 内光罩库。因此，平台保证了掩模全面管理方法，这对 EUVL 基础设施十分重要。

Mask Track Pro 提供一个特殊的无硫自动光掩模清洗配置选项。背面清洁系统提供工厂使用的光掩模特殊清洁解决方案，其中不仅定期清除背面污垢，还必须除去正面的潮湿斑点。此系统还适用于清洁小批量的光掩模坯件以及用于研究。

MaskTrack Pro 的 InSync 系统提供了 EUVL 环境中的全面掩模管理方案。作为 MaskTrack Pro 清洁平台和极紫外扫描仪之间的接口，它可以自动化 EUV-Dual-Pod 系统。其对自身清洁的最高标准，使 EUV-光掩模可以零粒子转移并且与EUV扫描仪高度敏感的真空环境兼容。创新设计允其存储 Inner-Pod 并且在背面探测颗粒。

MaskTrack Pro 烘烤和显影系统是 SUSSs 下一代光刻技术掩模产品线的一部分。专为亚32 nm 技术节点而设计，平台能够在制造掩模时完成高度复杂的工艺步骤。

TeraPure，特殊的 MaskTrack Pros 压印模板系统，包含业内公认的一次取得最佳清洁效果的成熟技术。模块化设计为客户提供动态和显影技术所需的灵活性，如纳米压印光刻（NIL）。