LabSpin系列旋涂机和显影机
验室涂胶显影方案，最大尺寸6”到8”
SUSS MicroTec的labSpin平台推出下一代手动涂胶/显影系统。该系统根据实验室和研发用途定制开发，针对不同类型的光刻化学试剂设计，通过先进的腔体设计，提供均匀、精确和重复性高的涂胶结果。
亮点
- 工艺种类繁多，包括旋涂和水坑显影
- 边缘珠子的移除
- 分装定位可灵活调整
LabSpin系统提供两种型号的设备，分别是桌上型（table-top，TT）和集成型（集成在湿化学槽中，Bench Module，BM），都可以完成最大尺寸为150mm或200mm的衬底涂覆功能。LabSpin涂胶机可以应用于非常广泛的衬底材料，从碎片到150/200mm圆片或100x100mm/150x150mm方片。非常小的设备尺寸只需要很小的占地空间。
LabSpin设计了大量的选配件，适用于不同应用的需求。该涂胶系统可以装配针筒或自动滴胶臂、边缘涂覆、去厚胶边、积水式显影等等多种配置。