XBC300 Gen2デボンダーおよびクリーナー

高い柔軟性を持つオープンなプラットフォーム

剥離・洗浄プラットフォームXBC300 Gen2は、200㎜及び300㎜ウエハ、並びにキャリアウエハの処理のために設計されています。その上、インテリジェントなプロセス管理によって、最大50 µmまたはそれ以下の厚さの保持フィルム上の薄化ウエハのハンドリングも可能です。薄化ウエハとキャリアの機械的なピールオフや、エキシマレーザーによる剥離・洗浄プロセスなどの最新のプロセス技術用製品として XBC300 Gen2 は 2,5D次元積層 ・ 3次元積層用途に総合的なソリューションを提供します。

ハイライト

  • 各種の材料及びプロセスのためのオープンなプラットフォーム
  • 室温での剥離プロセス
  • 保持フィルムによって保護されたダイシングフレーム上の薄化ウエハの洗浄
  • 高スループット
XBC300 Gen2デボンダーおよびクリーナー

XBC300 Gen2 では剥離・洗浄用途専用のモジュールオプションを提供しています。デバイスウエハからのキャリアの剥離は管理された状態で実行され、デバイスウエハにかかる負荷を最小限に抑える機械的ピールオフ、またはエキシマレーザーによる剥離プロセスによって行われます。機械的剥離プロセスは、機械的剥離で使用される市販のあらゆる接着剤及び剥離層に対応しています。レーザー剥離プロセスは、UVレーザー技術及び、ガラス又はサファイアなどUV光に対して透過性のあるキャリア材の使用をベースとしています。XC300 Gen2 では、キャリアウエハ及びダイシングフレーム上の薄化ウエハの洗浄用モジュールも装備しています。最終の洗浄プロセスではダイシングフィルムは、プロテクションリングによって専用されます。

XBC300 Gen2 はフレキシブルに構成でき、少量のプロセス開発用、又は大量生産用に装置構成することが可能です。 Dock and Lock™技術によるモジュラークラスタデザインの為、 装置の機能性拡張、またはスループット向上のため、プロセスモジュールを現地で簡単にアップグレードすることができます。XBC300 Gen2 は、総保有コスト(Cost of ownership)を低く抑え、同時に自動化率の高い柔軟なプロセスを提供します。

SUSS MicroTecの仮貼り合わせプラットフォーム XBS300 は、薄化するデバイスウエハとキャリアウエハを接合します。

詳細

  • サブストレート
  • デボンディング
  • 薄いウェハーの洗浄
  • キャリヤの洗浄

脱骨・洗浄

  • 機械的剥離デボンディング
  • エキシマレーザーによるデボンディング
  • AR300TF
  • キャリアのクリーニング