ACS200 Gen3 TEコーター&デベロッパー

スループットを最大化する全自動プラットフォーム

SUSS ACS200 Gen3 TEプラットフォームは、非常に成功し、よく知られているACS200 Gen3プラットフォームを新たなレベルに引き上げました。スループットが向上し、操作とメンテナンスがより快適になりました。SUSS ACS200 Gen3 TEは、モジュールと技術の比類ない構成の柔軟性を提供し、先端パッケージング、MEMS、LEDなどの市場の要求をカバーし、研究開発から量産まで対応します。

ハイライト

  • 最大6台のスピナーモジュール
  • インモーションセンタリング(IMOC)によるウェーハハンドリングの向上
  • 比類ない構成の柔軟性
  • インクジェットを自動機化
  • 高い操作性
  • 標準製造インターフェース(SMIF)ロードポート
ACS200 Gen3 TEコーター&デベロッパー

ベースフレームが再設計され、最大6台のスピナーモジュールの構成が可能となり、これらのモジュールの上部にプレートスタックを設置することができます。さらに、ウェーハ搬送中にその場でセンタリングを行うインモーションセンタリング(IMOC)機能の導入により、全体的なスループットがさらに向上しました。
プラットフォームは最新のESD規格に対応し、オペレーターや技術者により高い快適性を提供します。セカンドスクリーンは個々のニーズに合わせて設定可能です。カメラやツール/モジュールのステータスを表示したり、計測データを処理したりできます。周辺機器も大幅に改良され、新たに導入されたFlexi Media Cabinetは、整然さと高い標準化を提供します。
このプラットフォームは、PiXDROテクノロジーを搭載したSUSS JETxインクジェットモジュールが完全に統合されており、次世代の材料成膜をサポートするとともに、他のモジュールの追加も可能です。標準製造インターフェース(SMIF)ロードポートが導入されました。さらに、フローコントローラーシステムは、溶剤や現像液の供給に優れたディスペンス精度を提供します。
ACS200 Gen3 TEプラットフォームは、最先端のオープンボウルコーティングとSUSS独自のGYRSET®クローズドカバーコーティングテクノロジーを引き続き提供します。好評のボウルデザインは変わらず、旧プラットフォームからの容易なプロセス移行を実現します。

詳細 : コーティング

  • スピンコート
  • スプレー塗布

スピンコートでは、回転させた基板上に、レジストを用いて均等に薄膜を構成します。レジスト (感光性レジストなど) は多くの場合、ウエハの中心に供給されます。その後の加速、最終回転数、各工程の継続時間に応じて、遠心力でレジストの一部が除去され、膜厚が均質になり ます。形成される薄膜の厚さは、プロセスの各種パラメータだけでなく、レジストまたはフォトレジストの物理的特性によっても左右されます。

ただし、スピンコートは高い起伏のパターンには適していません。

Available for:

半自動塗布装置および開発装置
マニュアルコーターとデベロッパー

詳細 : 現像

  • パドル現像方式
  • スプレー現像方式

このプロセスでは、露光された基板に所定量の現像液を塗布し、適度に回転させて配分します。その際、現像液の表面張力によって、基板上に現像液が溜まった状態 (英語で「Puddle」) になります。現像時間が経過した後、現像液は高速回転によりウエハから飛ばされます。そして、脱イオン水でウエハを洗浄し、再び高速回転によって乾燥します。この手法のメリットは、現像液が少量しか必要でないこと、そして良好な現像結果が得られることです。
パドル現像方式は、大量の現像済みフォトレジストを取り除く場合や、起伏が高いパターンによって現像液の入れ替えが妨げられる場合など、現像液の飽和時には適していません。このような場合には、多段式パドル現像方式またはスプレー現像方式が使用されます。

特色與優點

  • M化学品用量低

Available for:

自動コーターおよびデベロッパー
半自動コーターおよびデベロッパー

オプション

  • GYRSET®
  • 倒立ボトル
  • スケジューラ-ソフトウエア
  • 反った ウエハのハンドリング
  • AltaSpray®
  • ベーキング
  • べーパープライミング
  • エッジハンドリング

GYRSET® 技術

SUSS 独自の GYRSET® 技術は、コーティング中の条件を改善することで、スピンコーティングプロセスの結果を大幅に改善するのに役立ちます。回転カバーの助けを借りて、溶媒で高度に飽和した乱流のない雰囲気を作り出すことができます。これにより、結果が周囲の温度や湿度からより独立したものになるだけでなく、ウェハーをコーティングするために必要な材料の量が大幅に削減されるため、環境持続可能性が改善されます。

GYRSET® 技術は、厚いレジストの処理に非常に適しています。

ハイライト

  • 背面汚染の防止
  • 表面粗さが少ない
  • 表面平面性の改善
  • 化学薬品消費量の削減

Available for:

Semi-Automated Coater and Developer