マスクトラックプロシリーズ

MaskTrack Proは、物理的および化学的洗浄技術と、表面処理および表面安定化のための技術との独自の組み合わせを提供します。これにより、1x nm hpのテクノロジーノードまでマスクの完全性を維持しながら、粒子、有機および無機汚染を効果的に除去できます。MaskTrack Proは 90 nm hpと下位互換性があります。

MaskTrack Proは、高度なテクノロジーノードに向けて、ペリカリ化されたマスクの洗浄用に特別に設計された硫酸フリーの自動フォトマスク洗浄システムとして構成可能です。

MaskTrack Pro InSyncシステムは、EUVL環境での全体的なマスク管理のための特別なソリューションを提供します。MaskTrack Pro洗浄装置とEUVスキャナー間のインタフェースとして、EUVデュアルポッドシステムの自動化を可能にします。環境と取り扱いにおいて非常に高い本質的清浄度を提供し、EUVマスクの安全で汚染のない搬送、およびEUVスキャナーの高感度真空環境への適合性を保証します。革新的な設計により、サードパーティシステムのクラスタリングによる内部ポッドストッキングと裏面の粒子検出が可能になっています。

MaskTrack Proベーク／現像システムは、次世代リソグラフィ向けのSUSSの包括的なマスク製品シリーズの一部です。サブ32nmリソグラフィの課題に合わせて設計されたこのシステムは、非常に複雑なフォトマスク製造を可能にします。

インプリントテンプレート用のMaskTrack Pro固有のシステムであるTeraPureは、実証済みの洗浄技術であり、最高の初回通過洗浄歩留まりが業界で認められています。モジュール設計により、ナノインプリントリソグラフィ(NIL)などのダイナミックに発展中の技術に必要な柔軟性を顧客に提供します。