MA12 Gen3 マスクアライナー

産業研究および高コスト効率生産用 手動マスクアライナ

MA12は300 mmまでのウエハや角基板をアライメントおよび露光するための装置で、産業分野での研究ならびに製造に使用できます。最新のマスクアライメント技術により、フレキシブルなハンドリングやプロセス制御のソリューションを備えたこの装置は、3次元ウエハレベルチップスケールパッケージなどのアドバンスドパッケージ用途をはじめ、MEMSといった繊細なデバイスの開発や製造に適しています。

ハイライト

  • マイクロからナノまでのインプリントを1台でカバー。
  • 反ったウエハやもろい素材の高信頼性ハンドリング
  • 優れた照度均一性
  • 高度なプロセス制御
  • 強化されたSUSSレベリングシステム
  • フットプリントが小さく、エルゴノミクスが向上しています。
MA12 Gen3 マスクアライナー

様々なプロセス環境に応じた光学系システムの選択が可能で、様々な位置合わせ手法に対応しているMA12は、最新のリソグラフィプロセスの開発と導入に必要とされる柔軟性を持っています。操作システムはアシスト機能付きで、分かりやすい操作画面を見ながら容易に操作することができます。これらの特徴と手動ウエハハンドリングの様々なメリットが組み合わされ、高度なプロセス制御が可能になるだけでなく、高い信頼性も確保されます。

MA12には最先端のマスクアライナ技術が採用されているため、開発したプロセスはSUSS MicroTecの製造用アライナMA300 Gen2に容易に移行できます。

詳細 : アライメント

  • 表面アライメント (TSA)
  • 裏面アライメント (BSA)
  • DirectAlign®
  • オペレーター支援によるウェハーおよびマスクのローディング

詳細 : 露出度

  • プロキシミティ 露光
  • ソフトコンタクト露光
  • ハードコンタクト露光
  • 真空コンタクト露光

詳細 : 露光光学系

  • MO Exposure Optics®
  • HR / LGO 光学系
  • 回折光減少式 光学系
  • UV-LEDランプハウス

詳細 : オートメーション

  • 平行出し補正機構
  • オペレーター支援によるウェハーおよびマスクのローディング

露出度

  • Lab シミュレーションソフトウェア
  • Source Mask Optimization(照明、マスクの最適化技術)

ナノインプリントリソグラフィー

  • インプリントリソグラフィ
  • SMILE
  • スタンプ製造