ASx Serie 詳細 ダウンロード

ASxシリーズ

SUSS の ASx シリーズは、250 nm ～ 90 nm のテクノロジーノードとフォトマスク加工に最新のベーク、現像、洗浄のメソッドを提供します。信頼性、安定性、そして高性能によって、本プラットフォームは、248 nm- 193 nm領域のリソグラフィープロセスでの欠陥のないフォトマスクの加工における要件に応えます。

ハイライト

  • フォトマスクの耐用年数に効果をもたらす最高の洗浄結果を1回目で得ることができます。
  • 小さな設置面 (1200 x 1200 mm）と低いCOO
  • 高い信頼性と稼働率
  • 250台以上のASxを販売
  • 最先端のアドバンスド・ベイク - 14nmノード以降へのクオリファイ
ASxシリーズ

アドバンスト・シングルサブストレートクリーナー ASC 5500

  • 標準
  • General Information
  • 洗浄
  • サブストレート

業界との適合

  • SEMI S2, S8, S13との互換性
  • CEマーク付き
  • ヨーロッパの統一規格および機械指令 2006/42/EC、EMC指令 2004/108/EC、および低電圧指令 2006/95/ECに準拠
  • DIN EN ISO 14.644 Class 2制御環境
  • SECS/GEM 200/300 mm標準インタフェースを介してファクトリーオートメーションに対応

ポストエクスポージャーベイクシステム APB9500

  • 標準
  • 露光後のベーク
  • 一般情報
  • 特徴

業界との適合

  • SEMI S2, S8, S13との互換性
  • CEマーク付き
  • ヨーロッパの統一規格および機械指令 2006/42/EC、EMC指令 2004/108/EC、および低電圧指令 2006/95/ECに準拠
  • DIN EN ISO 14.644 Class 2制御環境
  • SECS/GEM 200/300 mm標準インタフェースを介してファクトリーオートメーションに対応

デベロップシステム ASP5500

  • デベロッパー
  • A+ Nozzleによる低インパクト現像、マスク全体への連続的なメディア分布
  • 現像液の積極的な脱気により、微小気泡の発生を防ぎ、低欠陥数を実現
  • PEB用APBを搭載したクラスター化装置
  • 効率的なケミカルフィルター（アミン/酸）および精密な温度・湿度コントロール
  • SMIFロード/アンロードを含む完全自動化
  • プロセス制御とモニタリング機能の強化
  • ポストエクスポージャーベークシステムAPB9500との組み合わせにより、最適な結果を得ることができます。